你了解半導體制造中的超純水設(shè)備性能嗎？

　　前言：半導體行業(yè)屬于電子信息產(chǎn)業(yè)，是當今世界經(jīng)濟發(fā)展的重要引擎之一。自20世紀50年代晶體管發(fā)明以來，半導體行業(yè)經(jīng)歷了從鍺時代到硅時代的演變，現(xiàn)在已進入第三代半導體——寬禁帶半導體時代。在半導體行業(yè)的發(fā)展歷程中，無數(shù)次的技術(shù)革新和產(chǎn)業(yè)升級，推動著整個產(chǎn)業(yè)鏈向前發(fā)展。今天我們主要來了解半導體制造中的超純水設(shè)備性能。

　　我們都知道，從半導體制造的原材料，到器件的制造和封裝，每一個環(huán)節(jié)都需要精密的技術(shù)和設(shè)備，對于半導體的制造過程中的用水要求也是格外嚴格。半導體生產(chǎn)中的用水純度對于產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率具有極其重要的影響。超純水設(shè)備作為一種能夠生產(chǎn)超純水的新型設(shè)備，被廣泛應(yīng)用于半導體制造過程中。該設(shè)備生產(chǎn)出的超純水電阻率達到18 MΩ*cm，幾乎不含任何雜質(zhì)、細菌、病毒等，完全可用作半導體領(lǐng)域。

　　這樣的超純水設(shè)備具有怎么樣的突出性能呢？

　　1.產(chǎn)水穩(wěn)定品質(zhì)高。對比傳統(tǒng)超純水生產(chǎn)工藝，該設(shè)備多是采用膜技術(shù)，在應(yīng)用反滲透加EDI系統(tǒng)和拋光混床模塊相結(jié)合的工藝來制取超純水，出水水質(zhì)符合國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準；

　　2.設(shè)備中應(yīng)用的EDI模塊無需使用化學品的再生，運行成本低，EDI系統(tǒng)的自動化程度很高，連續(xù)工作，出水水質(zhì)好且穩(wěn)定，出水電阻率≥18 MΩ*cm；

　　3.該超純水設(shè)備采用專用的膜元件，在保證系統(tǒng)高回收率的同時，有效提高系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)；

　　4.該超純水設(shè)備具有自動化程度高的優(yōu)勢，在運行中如果遇到故障可以立即自停，具有自動保護功能，且能耗低、水利用率高。

　　結(jié)束語：綜上所述，這樣的超純水設(shè)備因其性能優(yōu)勢突出且占地面積小，可以為企業(yè)節(jié)省大量的空間得到了許多半導體行業(yè)的歡迎。該設(shè)備在電子芯片、集成電路及封裝、光伏發(fā)電、航空航天等領(lǐng)域中也是多有應(yīng)用。

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　　編輯：新奇   技術(shù)：加菲